指定填充陣列設置
指定完“填充”陣列之后，可以設置某些選項來影響生成的幾何的顯示方式。

使用替代原件
為填充陣列指定的缺省原點是陣列導引中心。以此位置作為依據創建生成的陣列成員。可以使用“使用替代原件”(Use alternate origin) 選項來指定替代原點位置。選擇替代原點可讓系統重新計算陣列成員排列，就像陣列導引位于新指定的原點一樣。請注意，陣列導引實際并未重定位至新指定的原點；相反，在另一排列中仍存在陣列，但系統將陣列放置調整為位于陣列導引中心。可以選擇下列任何一項作為替代原點：

• 基準點
• 坐標系
• 頂點
• 草繪曲線的末端
只能選擇在陣列導引之前創建的特征作為替代原點。
跟隨引線位置
啟用“跟隨引線位置”(Follow leader location) 時，系統會將陣列成員從填充曲線的草繪平面隨引線偏移相同的距離。禁用該選項時，系統會圍繞填充曲線草繪平面將陣列成員置于中心位置。
跟隨曲面形狀
可通過啟用“跟隨曲面形狀”(Follow surface shape) 選項將陣列成員配置為跟隨曲面輪廓。在圖 2 的圖像中，陣列成員相對于指定的曲面形狀向上向下移動。
然后，可根據需要將實例方向控制為跟隨曲面方向。啟用“跟隨曲面方向”(Follow surface direction) 選項可確保將每個陣列成員定向為跟隨該曲面，如圖 2 中的左圖所示。禁用“跟隨曲面方向”(Follow surface direction) 選項可確保所有陣列成員在選定曲面上具有恒定方向，但仍將根據曲面的形狀重定位。所有成員的方向都與陣列導引相同，如圖 2 中的右圖所示。
間距選項
使用“跟隨曲面形狀”(Follow surface shape) 選項時，下列“間距”(spacing) 選項可供使用：
• 按照投影
• 映射到曲面空間
• 映射到曲面 UV 空間